2ナノ工場が活況、新應材の業績が好調
2026年4月24日
台湾の特殊化学材料メーカーである新應材（AEMC）は、今年、複数の大手ファウンドリの先端プロセス向け2ナノ材料分野に参入したことで、高雄工場（第1期）の生産能力がフル稼働に達する見込みとなった。新應材は、先端プロセスノードを継続的に進展させており、A16およびA14プロセスについては既に検証段階に入っていると述べた。
新應材は、先端プロセス材料、先進パッケージング材料、光学素子材料の分野に重点を置いている。特に、先端リソグラフィ材料は、顧客の量産に全面的に導入されており、これには表面改質剤（Rinse）、エッジリンス（EBR）、洗浄剤（Cleaner）、および下層反射防止膜（BARC）などが含まれる。また、プロセスノードが2ナノから1.4ナノへと進む中で、保護膜（Protection Layer）などの新材料の開発も継続して行っている。
フォトレジスト材料に関しては、新應材はDUVフォトレジスト液の展開を積極的に進めており、KrFおよびArFフォトレジスト製品の開発に注力している。さらに、共同パッケージング光学（CPO）材料にも取り組んでおり、光学材料、接着剤、仮保護膜など、様々な材料の開発を行っている。
